填孔电镀
填孔电镀系统可根据产能、工艺流程、与零件几何形状相匹配的挂具、治具或产品搬运方式,以及公用工程、安全和可追溯性要求进行配置。
最终规格将在审查产品、工艺、产能、厂房布局、公用工程及适用标准后确定。
填孔电镀系统专为高端 PCB、HDI 及半导体应用而设计,可实现可靠的电镀铜填孔、微孔填充及高密度互连。
ES-PRO 提供定制化的电镀铜解决方案,通过优化电流分布、槽液循环、过滤、温度控制和化学品管理,实现无空洞填充、均匀的铜沉积以及稳定的镀层厚度。系统可根据板件设计、孔型结构、产能及工艺要求,针对盲孔、通孔、微孔及其他高深宽比结构进行配置。
所示流程仅供工程参考。最终工序、化学体系、停留时间及控制点将根据客户工艺确认。
填孔电镀广泛应用于需要高密度互连、可靠导电性和无空洞铜填充的高端电子制造领域。
HDI 印制电路板
微孔及盲孔填充
半导体基板
IC 封装基板
通孔填铜
高密度多层 PCB
汽车电子
通信及高频电子产品
向 ES-PRO 工程团队说明您的工艺和项目要求。